AG防眩層膜厚儀

更新時(shí)間：2026-02-10

簡要描述：

AG防眩層膜厚儀: 按照客戶需求搭建的防眩薄膜厚度特性表征工具。
AG防眩層膜厚儀是一個(gè)模塊化和可擴(kuò)展平臺的光學(xué)測量設(shè)備，可用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的防眩膜層。
AG防眩層膜厚儀是為客戶量身定制的，并廣泛應(yīng)用于各種不同的應(yīng)用。
比如：
吸收率/透射率/反射率測量，薄膜特性在溫度和環(huán)境控制下甚至在液體環(huán)境下的表征等等…

訪問次數(shù)：6710廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商

1. 產(chǎn)品概述

AG防眩層膜厚儀: 按照客戶需求搭建的防眩薄膜厚度特性表征工具。

AG防眩層膜厚儀是一個(gè)模塊化和可擴(kuò)展平臺的光學(xué)測量設(shè)備，可用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的防眩膜層。

AG防眩層膜厚儀是為客戶量身定制的，并廣泛應(yīng)用于各種不同的應(yīng)用。

比如：

吸收率/透射率/反射率測量，薄膜特性在溫度和環(huán)境控制下甚至在液體環(huán)境下的表征等等…

2. AG防眩層膜厚儀應(yīng)用

大學(xué)&研究實(shí)驗(yàn)室、半導(dǎo)體行業(yè)、高分子聚合物&阻抗表征、電介質(zhì)特性表征、

生物醫(yī)學(xué)、硬涂層，陽極氧化，金屬零件加工、、光學(xué)鍍膜、非金屬薄膜等等…

AG防眩層膜厚儀可由用戶按需選擇裝配模塊，核心部件包括光源，光譜儀（適用于 200nm-2500nm 內(nèi)的任何光譜系統(tǒng)）和控制單元，電子通訊模塊。

通過不同模塊組合，蕞終的配置可以滿足任何終端用戶的需求。

3. 膜厚儀規(guī)格（Specificatins ）

Model	UV/Vis	UV/NIR -EXT	UV/NIR-HR	D UV/NIR	VIS/NIR	D Vis/NIR	NIR
光譜范圍 (nm)	200 – 850	200 –1020	200-1100	200 – 1700	370 –1020	370 – 1700	900 – 1700
像素	3648	3648	3648	3648 & 512	3648	3648 & 512	512
厚度范圍	1nm – 80um	3nm – 80um	1nm – 120um	1nm – 250um	12nm – 100um	12nm – 250um	50nm – 250um
測量n*k 蕞小范圍	50nm	50nm	50nm	50nm	100nm	100nm	500nm
準(zhǔn)確度,*	1nm or 0.2%	1nm or 0.2%	1nm or 0.2%	1nm or 0.2%	1nm or 0.2%	2nm or 0.2%	3nm or 0.4%
精度,*	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.1nm
穩(wěn)定性,*	0.05nm	0.05nm	0.05nm	0.05nm	0.05nm	0.05nm	0.15nm
光源	氘燈 & 鎢鹵素?zé)?span>(內(nèi)置)				鎢鹵素?zé)?span>(內(nèi)置)
光斑 (直徑)			350um (更小光斑可根據(jù)要求選配)
材料數(shù)據(jù)庫				> 600 種不同材料

4. 膜厚儀配件

電腦	13~19 英寸屏幕的筆記本電腦/觸摸屏電腦
聚焦模塊	光學(xué)聚焦模塊安裝在反射探頭上，光斑尺寸＜100um
薄膜/比色皿容器	在標(biāo)準(zhǔn)器皿中對薄膜或液體的透射率測量（選配）
接觸式探頭	用于涂層厚度測量和光學(xué)測量的配件，適用于彎曲表面和曲面樣品（選配）
顯微鏡	用于高橫向分辨率的反射率及厚度顯微測量（選配）
Scanner (motorized)	帶有圓晶卡盤的Polar（R-Θ）或 Cartesian（X-Y）自動化樣品臺可選，Polar（R-Θ）樣品臺支持反射率測量，Cartesian（X-Y）樣品臺支持反射率和透射率測量（選配）
積分球	用于表征涂層和表面的鏡面反射和漫反射（選配）
手動 X-Y 樣品臺	測量面積為 100mmx100mm 或 200mmx200mm 的x - y 手動平臺（選配）
加熱模塊	嵌入FR-tool 中，范圍由室溫~200oC，通過FR-Monitor 運(yùn)行可編程溫控器(0.1 oC 精度).（選配）
液體模塊	聚四氟乙烯容器，用于通過石英光學(xué)窗口測量在液體中的樣品。樣品夾具，用于將樣品插入可處理 30mmx30mm 樣品的液體中（選配）
流通池	液體中吸光率、微量熒光測量（選配）

5. 膜厚儀工作原理

白光反射光譜(WLRS)是測量垂直于樣品表面的某一波段的入射光，在經(jīng)多層或單層薄膜反射后，經(jīng)界面干涉產(chǎn)生的反射光譜可確定單層或多層薄膜（透明，半透明或全反射襯底）的厚度及 N*K 光學(xué)常數(shù)。

* 規(guī)格如有更改，恕不另行通知; ** 厚度測量范圍即代裱光譜范圍，是基于在高反射襯底折射率為 1.5 的單層膜測量厚度。

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